31WIIA二米平面光柵攝譜儀
以下是上海雙旭31WIIA二米平面光柵攝譜儀的產品介紹,整合了公開資料的核心信息:
產品概述
上海雙旭電子有限公司供應的31WIIA二米平面光柵攝譜儀,是一款專注于光譜分析的高精度設備。其設計適用于金屬合金(包括礦物)、純金屬及各類材料的成分檢測,支持日常定性定量分析任務,并能配合附件拓展激光微區分析等功能124。
核心參數與性能特點
-
光學系統
- 工作波段:覆蓋200-1000nm,兼容紫外至近紅外光譜范圍,滿足多元素分析需求。
- 焦距與孔徑:焦距2100mm,相對孔徑1:28,優化了光通量和分辨率平衡。
- 光柵配置:配備雙光柵系統,包括1200條/mm(2塊)及600條/mm(1塊)光柵,支持靈活切換以適應不同精度要求14。
-
精密機械結構
- 狹縫設計:寬度調節范圍0.002-0.3毫米,分度值達0.001毫米,支持微米級精度控制,確保光譜清晰度。
- 穩定性:二米長焦距結構結合剛性基座,減少環境振動干擾,保障長期測試一致性4。
-
應用擴展性
- 通過搭配專用附件,可拓展至激光微區分析、瞬態閃光現象記錄及弱光信號捕捉等場景,適應科研與工業復雜需求24。
典型應用領域
- 材料成分分析:快速鑒定金屬合金中的元素組成及雜質含量。
- 礦物研究:輔助地質樣品的光譜特征解析。
- 工藝質量控制:用于冶金、機械制造等行業的原材料與成品檢測12。
功能優勢總結
該設備通過長焦距光路設計和高精度光柵組合,實現了寬波段、高分辨率的光譜采集能力。其模塊化結構便于功能擴展,適用于從常規實驗室分析到前沿科研的多層次需求,為材料科學、工業質檢等領域提供可靠的數據支撐14。
注:以上描述基于公開技術參數與應用案例,未涉及廣告禁用詞匯及認證信息。產品具體性能可能因配置調整,建議參考制造商最新技術文檔。
上一篇 RK7051程控耐壓測試儀RK7051價格宜春豐城提貨點 http://www.sunkiss.cc/product/d41173.html |